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6月17日消息,在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)是少不了的關(guān)鍵設(shè)備,目前只有ASML能制造,單臺(tái)售價(jià)10億人民幣,今年底還會(huì)迎來(lái)下一代EUV光刻機(jī),價(jià)格也會(huì)大漲。
光刻機(jī)的分辨率越高,越有利于制造更小的晶體管,而分辨率也跟光刻機(jī)物鏡的NA數(shù)值孔徑有直接關(guān)系,目前的EUV光刻機(jī)是NA=0.33技術(shù)的,下代EUV光刻機(jī)則是提升到NA=0.55。
根據(jù)ASML公司高管日前透露的消息,NA=0.55的EUV光刻機(jī)今年底會(huì)出貨首個(gè)商用原型,2025年會(huì)正式量產(chǎn)。
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